3S-B50高純臭氧發生器是液化和儲存臭氧氣體并連續供應高純度臭氧氣體的裝置。由于高純度的臭氧水平,它可以用作半導體工藝中的氧自由基產生源。為了安全起見,本機具有足夠的安全措施。
優勢:
●超高純臭氧制備●臭氧濃度高于99.5%●液化池容積限制設計●安全閥設計●急停設計
產品特點● 全金屬密封臭氧液化池● 無硅膠吸附劑● 閉循環制冷機自動控溫● 提純速度快,準備時間只需30分鐘;提純1小時,能產出約4標升高純臭氧氣體,可滿足大部分用戶十小時以上的生長需求● 設計緊湊● 操作簡便,即起即停● 高純臭氧應用領域:化學氣相沉積(CVD),原子層沉積(ALD),氧化物生長,表面處理,粒子清潔,光刻膠去除,灰化等。臭氧輸出束流的穩定性和持續性
日本進口高純臭氧系統將臭氧生成裝置產生的臭氧氣體極度低溫液化后,生成99.99%濃度臭氧。可以持續供給99.99%濃度臭氧。
工作原理
臭氧應用
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